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聚焦离子束系统(FIB):材料微纳结构的样品制备,包括:SEM在线观察下制备TEM样品、材料微观截面截取与观察、样品微观刻蚀与沉积等。
Zeiss Auriga聚焦离子【zǐ】束场发射扫【sǎo】描双束电【diàn】镜
聚焦离子束场发射扫描双束电镜(FIB)是国际上纳米结构分【fèn】析和材料微纳结构【gòu】制【zhì】备的先进设【shè】备。它配有【yǒu】电子束【shù】和Ga离子束,可以实现【xiàn】电子【zǐ】束【shù】与离子束的同时在线观测,具有束流稳定、分辨率高、纳米操【cāo】控精【jīng】确的特点,可以在纳【nà】米尺【chǐ】度的【de】分辨率下对材料进【jìn】行三维、高质量、高稳定性的显微形貌、晶体【tǐ】结构和相【xiàng】组【zǔ】织的观【guān】察与分【fèn】析,及各种材料微区化学成【chéng】分的定【dìng】性和【hé】定量检测【cè】。
主要技术指标The main technical indicators:
SEM 分辨率Resolution: 1.0nm @ 15kV 1.9nm @ 1kV
放大倍数Mag.:12 ~ 1000,000x
加速电压EHT:0.1 ~ 30kV
FIB 分辨率Resolution:2.5nm @ 30kV
放大倍数Mag.:300×~ 500,000×
加速电压EHT:1.0 ~ 30Kv
配置Configuration
探测器Detector:Inlens二次电子探测器
E-T 二次电子探测器
ESB背散射电子探测器
X射线能谱仪 X-ray spectrometer
分辨率Resolution:127 eV @ MnKα
探测元素范围Detection range of elements: Be(4) ~ Fm(100)
EBSD探测器 EBSD Detector
空间分辨率Spatial resolution:50nm
主要功能:
1. 场发射扫描电镜(SEM):各种【zhǒng】材料【liào】形貌观察和分析【xī】,如金属、半导体、陶瓷、高【gāo】分子材料【liào】、有机聚合物【wù】等
2. X射线能谱分析仪(EDS):材料微区成分分析;MnKa峰【fēng】的半高宽优于127eV;CKa峰的版高宽优于【yú】56Ev;FKa峰的半高宽【kuān】优于【yú】64eV;元素Be4-U92;
3. 3D背散射电子取向成像系统(EBSD):多晶材料的晶体取向和织构分析和3D重构;空间分辨率:优于50nm;探测器灵敏度: 加速电压在3KV时,束流小于50pA能采集到花样;解析速度最大可达600点/s;测试能谱和EBSD 同步采集和一体化功能,选取实际样品进行三维EDS & EBSD测试;
4. 聚焦离子束系统(FIB):材料微纳结构的样品制备,包括:SEM在线观察下制备TEM样品、材料微观截面截取与观察、样品微观刻蚀与沉积等。